在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生明显的变化，在通过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，以此来实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程，实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中，光刻胶起防腐蚀的保护作用。

  光刻炉是整个集成电路制作的完整过程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制造50%左右，成本约占IC生产所带来的成本的1/3。光刻胶是光刻过程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。国内光刻胶生产商主要生产PCB光刻胶，面板光刻胶与半导体光刻胶生产规模比较小。国内生产的光刻胶中，PCB光刻胶占比94%，LCD光刻胶与半导体光刻胶占比分别仅有3%和2%。

  国内PCB光刻胶国产替代进度快，面板光刻胶与半导体光刻胶与国外相比仍有很大的差距。国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于国内光刻胶起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能大多分布在在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品，TFT-LCD、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能极少，仍需大量进口，因此导致国内光刻胶需求量远大于本土产量。

  核心竞争力：公司全资子公司湖南广裕感光新材料有限公司收到长沙市生态环境局《关于湖南广裕感光新材料有限公司年产1,920吨光刻胶建设项目环境影响报告表的批复》。该批复同意湖南广裕年产1,920吨光刻胶建设项目环境影响报告表中所列建设项目的性质，规模，工艺，地点，生态保护和污染防治措施等。

  核心竞争力：公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。

  核心竞争力：公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。主要聚焦在分立器件，LED等领域的应用，不涉及芯片制造领域。

  核心竞争力：专注于研发、生产和销售专用有机新材料的高新技术企业，基本的产品包括OLED材料、单体液晶、创新药中间体，用于OLED终端材料、混合液晶、原料药的生产，产品的终端应用领域包括OLED显示、TFT-LCD显示和医药制剂。

  核心竞争力：公司不生产光刻胶，企业主要从事电子材料领域各类光刻胶专用电子化学品（分为光引发剂、树脂）的研发、生产和销售及相关贸易业务。

  主营业务：主要是做电子材料领域各类光刻胶专用电子化学品的研发、生产和销售及相关贸易业务。

  核心竞争力：公司主要营业业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。公司湿电子化学品规模化生产所需的纯化技术，混配技术，分析检测技术在国内处于领先地位。

  主营业务：超净高纯试剂、光刻胶及光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。

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